RO膜元件是反滲透設備系統中最重要的部分，其日常維護的好壞直接影響到系統出水水質(zhì)的好壞，這里對于反滲透膜的清洗方法加以概述，系統說(shuō)明反滲透膜在運行中可能出現的污染物以及相對應的清洗方法。

　反滲透設備RO膜污染原因及清洗方

　方法/步驟

1. 細菌污染

　　一般特征：脫鹽率可能降低、系統壓降明顯增加、系統產(chǎn)水量明顯降低

　　清洗方法：PH值10,2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴重時(shí)更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40C；0.1%NaOH和0.03%SDS，PH=11.5。

二、硫酸鈣污染

一般特征：脫鹽率明顯降低、系統壓降稍有或適度增加、系統產(chǎn)水量稍有降低

清洗方法：PH值10,2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴重時(shí)更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40C；有時(shí)也可用PH小于10的NaOH水溶液清洗。

　三、有機物沉淀

　一般特征：脫鹽率可能降低、系統壓降逐漸升高、系統產(chǎn)水量逐漸降低

　清洗方法：PH值10,2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴重時(shí)更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40C。

四、氧化物/氫氧化物（鐵、鎳、銅）污染

　一般特征： 脫鹽率明顯下降、系統壓降明顯升高、系統產(chǎn)水量明顯降低

　清洗方法：氨水調PH值4,2%的檸檬酸溶液，溫度40C，有時(shí)也可以用PH2-3（0.5%）的鹽酸水溶液清洗。

五、無(wú)機鹽沉淀物污染

　一般特征： 脫鹽率明顯下降、系統壓降增加、系統產(chǎn)水量稍降

　清洗方法： 2%檸檬酸溶液，氨水調PH值4，溫度40C，也可用PH2-3（0.5%）的鹽酸水溶液清洗。

六、各種膠體（鐵、有機物及硅膠體）污染

　一般特征： 脫鹽率稍有將低、系統壓降稍有上升、系統產(chǎn)水量逐漸減少。

　清洗方法：硫酸調PH值10,0.2%三聚磷酸鈉STTP溶液，溫度40C；有時(shí)也可以用PH小于10的NaOH水溶液清洗。

　注意事項

　前置處理器要經(jīng)常沖洗，確保反滲透進(jìn)水水質(zhì)達標。

　反滲透膜元件根據出水水質(zhì)情況確定清洗周期。